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產品用(yong)途：此款(kuan)CVD系(xi)統適用(yong)于(yu)CVD工(gong)藝，如(ru)碳化硅(gui)鍍膜、陶(tao)瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可(ke)控(kong)生長(chang)、陶(tao)瓷電容(rong)（MLCC）氣氛燒結真空(kong)淬(cui)火退火，快速降溫等(deng)工(gong)藝實驗。

產品用途：此款CVD系統是專門為在(zai)金屬箔上(shang)生長薄膜而(er)設計，特(te)別是應用在(zai)新一代能源關(guan)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現快速加熱和冷(leng)卻。

CVD系統(tong)系周期作業(ye)，供企業(ye)實驗室(shi)，大專院(yuan)校(xiao)，科(ke)研(yan)院(yuan)所等(deng)單位選用，設(she)備為用戶(hu)提供具體(ti)真空、可(ke)控氣(qi)氛及高溫的實驗環境(jing)，應用在半導體(ti)，納米(mi)技術，碳纖維等(deng)新(xin)材料(liao)新(xin)工藝領域。