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CVD管(guan)式爐設備(bei)由沉(chen)積溫度(du)控件、沉(chen)積反應(ying)室、真空控制(zhi)部(bu)件和氣源控制(zhi)備(bei)件等部(bu)分(fen)組成亦可根據用戶需要設計生(sheng)產，CVD系統除了主要應(ying)用在碳納米(mi)材料制(zhi)備(bei)行業外(wai)，現在正(zheng)在使(shi)用在許多(duo)行業，包括納米(mi)電子學、半導體、光電工(gong)程的研發、涂料等領域。

CVD管式爐設備(bei)由沉(chen)積溫度控件、沉(chen)積反應室、真(zhen)空控制部件和氣源控制備(bei)件等部分組成亦(yi)可根據用(yong)戶需要(yao)設計生(sheng)產，CVD系統除了主要(yao)應用(yong)在碳納米(mi)材(cai)料制備(bei)行業外，現在正在使用(yong)在許多行業，包(bao)括納米(mi)電(dian)子學、半導體、光電(dian)工程的研發、涂料等領域。