產品用途：

此(ci)款CVD系(xi)統適用于(yu)CVD工藝(yi)，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率(lv)測試、ZnO納(na)米結構的可控

生長、陶(tao)瓷電容(rong)（MLCC）氣(qi)氛燒結真空淬火(huo)退火(huo)，快速降溫等工藝實驗。

產品組成：

CVD系統配置：

1.1200度開啟式真空(kong)管式爐（可選配多溫區）。

2.滑動(dong)(dong)系統(tong)分為手動(dong)(dong)、電動(dong)(dong)滑動(dong)(dong)，并配(pei)有風冷系統(tong)。

3.多路質(zhi)量(liang)流量(liang)控(kong)制系統

4.真空系(xi)統(tong)（可選配中真空或高(gao)真空）

產品特點：

1 控(kong)制電路選用模糊PID程控(kong)技(ji)術，該技(ji)術控(kong)溫精(jing)度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。

2 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子(zi)泵(beng)損壞，延長系(xi)統(tong)使用壽命。

3 (電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設定的速度滑動，因有滑動限位(wei)功能爐體(ti)不會(hui)發生碰撞，待樣品(pin)露出爐體(ti)后，通過風冷(leng)系統快(kuai)速降溫(wen)。