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RTP快速退火爐產品用途:
此款CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
RTP快速退火爐產品組成:
此款CVD系統配置:
1.1200度開啟式真空管式爐(可選配單溫區、雙溫區)。
2.多路質量流量控制系統
3.真空系統(可選配中真空或高真空)
產品特點:
1 控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。
2中真空系統具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子泵
防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統使用壽命。
產品名(ming)稱(cheng) | RTP系列-滑動(dong)式(shi)快(kuai)速(su)退火(huo)爐 |
產(chan)品型號 | RTP-G06123K-H |
額(e)定功率(lv) | 9KW |
額定電壓(ya) | 220AC 50/60Hz |
極限(xian)溫(wen)度 | 1000℃ |
連續(xu)工作(zuo) | 950℃(<1 小時(shi)) |
加熱區長度 | 250mm |
恒溫區長度 | 200mm |
加熱元件 | 紅外燈管 |
溫度(du)控制 | 國產(chan)程序控(kong)溫系(xi)統(tong)可編程50段程序控(kong)溫; |
控(kong)制精(jing)度 | ±1℃ |
石(shi)英管尺寸 | Φ60/Φ80/Φ100mm |
爐管材質(zhi) | 石英管(guan) |
滑動距(ju)離 | 300mm |
大(da)降溫速度 | 900~200℃的降溫速度:15min |
zui快升(sheng)溫速度 | 50oC/S |
滑動控制 | 由溫度控(kong)制器自動控(kong)制爐體移(yi)動. 當程序完成,爐體按設定的(de)速度滑動。 |
流量計 | 浮子(zi)流量計60-600ml/min |
滑軌尺寸 | 360 x1300x265mm |
外形尺寸 | 360x385x595mm |
重量(liang) | 85Kg |
標準配(pei)置 | 氣路總成一(yi)(yi)套(含真空(kong)壓力表(biao))石(shi)英(ying)管(guan)一(yi)(yi)支、石(shi)英(ying)堵三(san)個(ge)、鉤(gou)子一(yi)(yi)把、高溫手套一(yi)(yi)副。 |
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