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原來RTP快速退火爐是由這7個部分組成的！
更新時間：2022-07-14 點擊次數：2653
RTP快(kuai)速(su)(su)(su)(su)退火(huo)爐(lu)采(cai)用的(de)(de)(de)微(wei)電腦控制系統，采(cai)用PID閉(bi)環控制溫(wen)度(du)，可(ke)以(yi)達到*的(de)(de)(de)控溫(wen)精度(du)和溫(wen)度(du)均勻性，并且可(ke)配置(zhi)(zhi)真空腔體(ti)，也可(ke)根據用戶工藝(yi)需求配置(zhi)(zhi)多路氣(qi)體(ti)。目前設備(bei)可(ke)用于砷化鎵、硅(gui)以(yi)及(ji)(ji)其他半(ban)導體(ti)材(cai)料(liao)，離(li)子注入后的(de)(de)(de)退火(huo)、硅(gui)化物的(de)(de)(de)形成、歐姆接觸制備(bei)以(yi)及(ji)(ji)快(kuai)速(su)(su)(su)(su)氧化、快(kuai)速(su)(su)(su)(su)氮化等(deng)方面。本設備(bei)具有快(kuai)速(su)(su)(su)(su)升降(jiang)溫(wen)、慢速(su)(su)(su)(su)升降(jiang)溫(wen)、和長工作(zuo)時(shi)間穩定等(deng)特(te)點。也可(ke)用于各種半(ban)導體(ti)材(cai)料(liao)的(de)(de)(de)CVD工藝(yi)的(de)(de)(de)熱處理。
RTP快速退火爐主要(yao)由真空(kong)腔(qiang)室、加熱室、進氣系(xi)(xi)統(tong)(tong)、真空(kong)系(xi)(xi)統(tong)(tong)、溫度控(kong)制系(xi)(xi)統(tong)(tong)、氣冷(leng)系(xi)(xi)統(tong)(tong)、水冷(leng)系(xi)(xi)統(tong)(tong)等幾(ji)部(bu)分組(zu)成(cheng)。
1.真(zhen)空腔室：真(zhen)空腔室是快速(su)退火爐的(de)工作空間，晶圓在這里進行快速(su)熱處(chu)理。
2.加熱(re)室(shi)：加熱(re)室(shi)以多個紅外燈管(guan)為(wei)(wei)加熱(re)元件，以耐高(gao)溫合金為(wei)(wei)框架、高(gao)純石英(ying)為(wei)(wei)主(zhu)體。
3.進氣系統：真空腔室尾部有(you)進氣孔，控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。
4.真空(kong)系(xi)統：在(zai)真空(kong)泵和真空(kong)腔(qiang)室之間(jian)裝(zhuang)有高真空(kong)電磁閥(fa)，可以有效(xiao)確保腔(qiang)室真空(kong)度，同時避(bi)免氣體倒灌污(wu)染腔(qiang)室內的被處理工件。
5.溫度控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)系統：溫度控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)系統由溫度傳感器(qi)(qi)(qi)、溫度控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)器(qi)(qi)(qi)、電力調(diao)整(zheng)器(qi)(qi)(qi)、可編程控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)器(qi)(qi)(qi)、PC及各種傳感器(qi)(qi)(qi)等組成。
6.氣冷系(xi)統(tong)(tong)：真空腔(qiang)室的冷卻是(shi)通過進(jin)氣系(xi)統(tong)(tong)向腔(qiang)室內充(chong)入惰性氣體，來加(jia)速冷卻被熱處理(li)的工件，滿足工藝使用要求。
7.水冷(leng)系統：水冷(leng)系統主要包括(kuo)真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷(leng)卻(que)用水。
