RTP快(kuai)(kuai)速(su)退(tui)火(huo)爐用(yong)于半導體器件研發及生產等領域，可(ke)滿足離子注(zhu)入后的(de)快(kuai)(kuai)速(su)退(tui)火(huo)、歐姆(mu)接觸快(kuai)(kuai)速(su)合(he)金、硅化物(wu)合(he)金退(tui)火(huo)，氧化物(wu)生長以(yi)及銅銦鎵硒光(guang)伏應用(yong)中的(de)硒沉積等快(kuai)(kuai)速(su)熱(re)處(chu)理工藝場合(he)。

　　RTP快速退火爐應用領域：

　　1.離子注入/接觸退火(huo);

　　2.快(kuai)速(su)熱(re)處理(RTP)，快(kuai)速(su)退火(RTA)，快(kuai)速(su)熱(re)氧(yang)化(hua)(RTO)，快(kuai)速(su)熱(re)氮化(hua)(RTN);

　　3.RTP快速退火爐可在真空、惰(duo)性(xing)氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等(deng)不同環境下使(shi)用;

　　4.SiAu, SiAl, SiMo合金化;

　　5.低介電材料;晶體化(hua)，致(zhi)密化(hua);

　　6.太(tai)陽(yang)能(neng)電池片鍵合;

　　RTP快速退火爐(lu)結構特點：

　　爐膛采(cai)(cai)用(yong)進口多晶纖維真空吸附制成，采(cai)(cai)用(yong)進口紅外線加(jia)熱管加(jia)熱，使用(yong)壽(shou)命(ming)可(ke)達5000小時，升(sheng)溫速度(du)快，zui高溫度(du)可(ke)達1050℃。

　　爐管可自由移(yi)動，且密(mi)封法蘭(lan)(lan)之(zhi)間用搭(da)扣壓緊連接，放(fang)、取物料方便快捷，避免了螺(luo)栓密(mi)封人為操作導致(zhi)漏氣的(de)可能;減少了因安裝法蘭(lan)(lan)而造成加熱(re)管損(sun)壞的(de)可能;當爐管移(yi)出爐膛時(shi)冷確風扇(shan)啟(qi)動，可實現試樣的(de)迅速降溫，滿足材料驟冷驟熱(re)的(de)實驗要求;

　　RTP快速退火爐預(yu)留了真空(kong)、氣路快速接(jie)口，可(ke)配(pei)合我司真空(kong)系(xi)統(tong)、混氣系(xi)統(tong)使用;預(yu)留了485轉換接(jie)口，可(ke)通(tong)過我司軟件，與計算機互聯，可(ke)實(shi)(shi)現(xian)單(dan)臺或者多臺電爐(lu)的(de)遠程控制、實(shi)(shi)時追蹤、歷(li)史記錄、輸出報表(biao)等功(gong)能;

　　RTP快速退火爐設置超(chao)溫報警并斷電，漏電保護(hu)，操作(zuo)安全(quan)可靠(kao)。