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1200℃井式坩堝爐時(shi)間：2024-03-21生產(chan)地址(zhi)：天津(jin)廠商(shang)性質：生產廠家瀏覽量(liang)：9977井(jing)式坩堝爐，供企業實驗室(shi)，大專院校(xiao)，科(ke)研(yan)院所等(deng)單位選用應用在半導體，納米技術(shu)，碳(tan)纖(xian)維等(deng)領域 薄膜沉積(ji)爐、氣相沉積(ji)爐、納米材料爐。
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