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產品用途
PECVD系統是借助射頻(pin)使含有薄膜(mo)組成原(yuan)子的(de)(de)氣體(ti)電離(li)(li),在(zai)局部形成等離(li)(li)子體(ti),而(er)等離(li)(li)子體(ti)化學活性很強,很容(rong)易發生反應,在(zai)基片上沉積出所期望(wang)的(de)(de)薄膜(mo)。
產(chan)品(pin)組成
PECVD系(xi)統配置;
1.1200度開啟(qi)式(shi)滑動單溫區(qu)真空管式(shi)爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量(liang)(liang)流量(liang)(liang)控(kong)制系統
4.真空系統(單(dan)獨購買(mai))
產品特點
電(dian)源(yuan)范圍廣;溫(wen)度范圍寬(kuan);濺射區域長;整(zheng)管(guan)可(ke)調(diao);精致小巧,性價比高,可(ke)實現快速升降溫(wen),是實驗(yan)室生長薄膜(mo)(mo)石墨烯,金屬(shu)薄膜(mo)(mo),陶(tao)瓷薄膜(mo)(mo),復合薄膜(mo)(mo)等的理想選擇,也可(ke)作為擴展等離子清(qing)洗(xi)刻(ke)蝕使用(yong)。
系統名稱 | 集成型PECVD系(xi)統 | 1200℃小型PECVD系統(tong) |
系統(tong)型(xing)號 | PECVD-12IH-500A | PECVD-12IH-4Z/G |
控制方(fang)式 | 液晶屏微PLC控制系統 | 手動 |
極限(xian)溫度 | 1200℃ | |
加熱區長度(du) | 200mm | |
恒溫(wen)區長度 | 100mm | |
溫區 | 單溫區 | |
石(shi)英管(guan)管(guan)徑 | Φ60mm | Φ50mm |
額定(ding)功率 | 1.2Kw | 2Kw |
額定電壓 | 220V | |
滑動(dong)方(fang)式(shi)及(ji)距離 | 自動滑動;200mm | 手動滑動;200mm |
溫度控制 | 30段程序控溫 | 50段程序控溫 |
控制(zhi)精度 | ±1℃ | |
爐管極限工作溫度(du) | <1200℃ | |
氣路法(fa)蘭 | 采用多環密封技術卡箍快速連接 | |
排風(feng)冷卻(que)裝置 | 的(de)空氣隔熱(re)技(ji)(ji)術,結合熱(re)感(gan)應技(ji)(ji)術,當(dang)爐(lu)體表(biao)面溫(wen)升(sheng)到50℃時(shi), 排溫風扇將自動啟(qi)動,使爐體表面(mian)快(kuai)速降溫。 | |
氣體(ti)控制方式(shi) | 質量流量計(按鍵式) | |
氣(qi)路數量 | 2路(2-4路) | 4路(可根據(ju)具體需(xu)要選配氣路數量) |
流量范(fan)圍 | 0-500sccm(標準毫升/分(fen),可選配)氮(dan)氣標(biao)定(ding) | |
精度 | ±1%F.S | |
響應時間 | 1sec | |
工作溫度(流量計) | 20-120℃ | |
工作壓力(li) | 進氣壓力(li)0.05-0.3Mpa(表壓力) | |
進(jin)氣(qi)方式 | 采(cai)用防倒流設計(ji) | |
規格(ge) | 中真空(集成型請單獨購買) | |
系統真空范圍(wei) | 10Pa-100Pa | |
真空泵(beng) | 雙(shuang)級機械泵理(li)論(lun)極限真空度3x10-1Pa,抽(chou)氣速率(lv)4L/S(選配:其他抽(chou)速真(zhen)空泵),出氣口配有油污過(guo)濾(lv)器(qi),額定電壓220V,功率0.55Kw | |
信號頻率 | 13.56MHz±0.005% | |
功率輸出(chu)范圍 | 0W-500W | 0W-100W |
大反射功率(lv) | 350W | 30W |
射(she)頻輸出接口 | 50Ω,N-type,temale | |
功率(lv)穩定度 | ±0.1% | |
諧波(bo)分量 | ≤-50dbc | |
供電電壓 | 單相交流(liu)(187V-253V)頻率50/60HZ | |
整機功(gong)率(lv) | ≥70% | |
屏幕顯示 | 正方向功率,匹(pi)配器電容(rong)位置,偏置電壓值(zhi) | |
爐體外形尺寸 | 290×350×340mm | 290×350×495mm |
系統外形尺寸 | 420×1440×1100mm | 530×2310×750mm |
系統總重量 | 270Kg |
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