產品應用：二

PECVD系統(tong)是借助射頻使(shi)含有薄(bo)膜組(zu)成原子(zi)(zi)的(de)氣(qi)體電離(li)，在(zai)局部形成等(deng)離(li)子(zi)(zi)體，而等(deng)離(li)子(zi)(zi)體化學活性很強(qiang)，很容易發生反應(ying)，在(zai)基片上沉積出所期望的(de)薄(bo)膜。

產品組成：

PECVD系統配置：

1.1200度開啟式(shi)雙溫區真空管式(shi)爐

2.滑動系統(tong)分為手動、電動滑動，并(bing)配置管內測溫系統(tong)。

3.預加熱開啟式管式電(dian)爐(lu)

4.等離子射頻電源

5.多(duo)路質量流量控制系統

6.真空系統（可選配中真空或高真空）  

產品特點：

生長溫(wen)度低(di)；沉積速率快；成(cheng)膜質量(liang)好，適(shi)用范圍(wei)廣，設備簡單。

天津中(zhong)環電爐股份(fen)有限公(gong)司  地(di)址：天津市(shi)北辰區(qu)北辰科技園區(qu)雙川道(dao)11號(hao)